集成电路制备过程中哪些关键步骤需要清洗工艺
来源:学生作业帮助网 编辑:作业帮 时间:2024/05/05 23:46:48
集成电路制备过程中哪些关键步骤需要清洗工艺
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集成电路制备过程中哪些关键步骤需要清洗工艺
IC制备过程中大部分步骤都需要进行清洗,尤其是涉及腐蚀、离子冲击等;一些敏感层次制备前后也需要清洗,例如栅氧;清洗分很多种类,不同的试剂清洗目的不一样,有的是去除残氧、有的去除离子杂质,有的是中和电荷等等.
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